DMPTS プラズマトリートメントソース

envis-ION™ DMPTS

弊社の「envis-ION™ Dual Magnetron Pretreatment source」 、通称DMPTSは、樹脂基板への成膜の前処理用ツールとして有効です。   スパッタプロセスと同様な真空度で使用できる為、例えばスパッタソースからの置き換えや、その隣接した個所での使用が可能です。典型的なアノードレイヤーイオンソースのように、基板に対して過剰な処理を加え、ダメージ等を発生させる事無く、基板と膜の密着性を高めます。詳細は右記のリンクをクリックしてください。 application paper.

envis-ION™ DMPTS

Features
  • 柔軟な搭載が可能
  • 200時間以上連続使用が可能
  • 電極が露出していない為、コンタミの発生がほとんとない
  • 小型なデザイン
  • 3-40mTorrの広範囲でオペレーションが可能
  • その他のPVDプロセスと互換性が高い
  • 50-200㎜のビームを本体から放出し、プラズマ処理の効果を落とすことなく基板をトリートメント
利点
  • 現行装置にフィットします。
  • 長時間の連続使用が可能
  • 低価格
  • 膜密着性が向上
  • 基板ダメージを低減
  • 基板から余分な水分や有害なコンタミを除去、
  • 広範囲の動作圧力
  • 微調整が可能

envis-ION™ DMPTS

最大パワー

5kW/m

平常時パワー

2-4 kW/m

動作圧力

 2-40 mTorr

6.7 m/minでのPET基板へのエネルギー

>65 Dynes

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